Reaktyvaus Si mikrooptinių struktūrų ėsdinimo SF6/Ar, N2, He, O2 dujų plazmoje įtakos difrakcijos efektyvumui tyrimas. ELEKTRON ELEKTROTECH [Internet]. 1998 Apr. 27 [cited 2025 Dec. 5];16(3). Available from: https://eejournal.ktu.lt/index.php/elt/article/view/16011