“Reaktyvaus Si mikrooptinių struktūrų ėsdinimo SF6/Ar, N2, He, O2 dujų plazmoje įtakos difrakcijos efektyvumui tyrimas”, ELEKTRON ELEKTROTECH, vol. 16, no. 3, Apr. 1998, Accessed: Dec. 05, 2025. [Online]. Available: https://eejournal.ktu.lt/index.php/elt/article/view/16011