Reaktyvaus Si mikrooptinių struktūrų ėsdinimo SF6/Ar, N2, He, O2 dujų plazmoje įtakos difrakcijos efektyvumui tyrimas. Elektronika ir Elektrotechnika, [S. l.], v. 16, n. 3, 1998. Disponível em: https://eejournal.ktu.lt/index.php/elt/article/view/16011.. Acesso em: 5 dec. 2025.