Reaktyvaus Si mikrooptinių struktūrų ėsdinimo SF6/Ar, N2, He, O2 dujų plazmoje įtakos difrakcijos efektyvumui tyrimas. (1998). Elektronika Ir Elektrotechnika, 16(3). https://eejournal.ktu.lt/index.php/elt/article/view/16011