Reaktyvaus Si mikrooptinių struktūrų ėsdinimo SF6/Ar, N2, He, O2 dujų plazmoje įtakos difrakcijos efektyvumui tyrimas. ELEKTRON ELEKTROTECH. 1998;16(3). Accessed December 5, 2025. https://eejournal.ktu.lt/index.php/elt/article/view/16011